尊龙凯时：广立微新专利获授权：提升设计规则检查效率的革新之路

发布时间：2025-05-02 15:45:33 发布人：小编浏览量：

　　2025年2月25日，广立微（301095）成功获得一项重磅发明专利授权，专利名称为“一种设计规则检查结果的过滤方法、装置及存储介质”。这一消息不仅标志着广立微在设计规则检查领域的技术进步，也将为行业内的研发效率带来深远影响。

　　该专利的核心在于提供了一种新颖的设计规则检查结果的过滤方法，其主要功能是通过对原始版图和相关的待过滤测试结构进行分析，从而获取更多精准的信息。具体流程包括首先获取原始版图，随后确定待过滤测试结构，基于此生成第二版图，该版图仅包含与待过滤结构相关的图元。在此基础上，分别对两份版图进行设计规则检查，生成检查结果文件，并通过比较原始版图与第二版图的差异，最终形成过滤后的检查结果。ZLKS.COM

　　这一过程的创新性在于，能够自动过滤由于测试结构产生的非必要的设计规则检查错误，专注于实际影响设计质量的非测试结构所引起的错误。该方法的实施显著减少了设计规则检查中人工判断的时间和成本，同时有效降低了人工检查的错误率，保证了检查结果的可靠性，进而优化了设计流程。

　　截至目前，广立微仅在2025年就获得了14项专利授权，同比去年增长了366.67%。与此相呼应的是，公司在2024年上半年研发投入达到了1.32亿元，同比增长了41.77%，这一数据表明广立微在技术创新方面的持续投入和坚定决心。

　　广立微的这一专利无疑是在智能设计领域的一次技术革新，而其推广应用可以促进整个电子设计自动化（EDA）行业的进步。设计规则检查作为半导体设计中不可或缺的一环，准确性与效率息息相关，广立微的新方法正满足了市场对高效设计的需求。

　　在行业背景下，设计规则检查在快速发展的电子产品设计中显得尤为重要。随着电子产品的复杂程度增高，原始设计文件中的错误和不合规性也随之增加，而传统的检测方法难以满足现代化设计的高效需求。因此，广立微所研发的这一创新技术能够在激烈的市场竞争中占得先机。

　　展望未来，广立微的这一技术突破将有助于公司在电子设计行业内进一步提升竞争力，并推动更多具有前沿性和实用性的AI绘画、AI写生等相关应用的实施。这也为设计师带来了更大的创作空间和便利，助力科技与艺术的结合，真正实现人机协作的优化。借助AI技术的不断发展，设计领域的创新空间有望持续扩大，纵观全局，广立微无疑是在这一进程中引领潮流的先行者。

　　在科技飞速发展的今天，广立微的新专利不仅是技术上的一个里程碑，更是对整个行业未来发展的深刻启示。随着越来越多的企业加入智能设计的行列，谁能掌握创新技术的核心，将在未来的市场竞争中赢得胜利。